Warning: fopen(/home/virtual/kwjs/journal/upload/ip_log/ip_log_2024-04.txt): failed to open stream: Permission denied in /home/virtual/lib/view_data.php on line 88 Warning: fwrite() expects parameter 1 to be resource, boolean given in /home/virtual/lib/view_data.php on line 89 Ultra-Thinned Si Wafer Processing for Wafer Level 3D Packaging

Journal of KWJS 2008;26(1):12-16.
Published online March 21, 2008.
웨이퍼 레벨 3D 패키징을 위한 초박막 Si 웨이퍼 공정기술
,
 
Ultra-Thinned Si Wafer Processing for Wafer Level 3D Packaging
MiKyeung Choi, Eun-Kyung Kim
Abstract
  본 보고에서는 3D 패키징에서 중요한 공정의 하나인 초박막 Si 웨이퍼 Thinning 공정에 대해 간략히 소개하였고, 표면처리에 대해 살펴보았다. 기계적, 특히 전기적 Damage를 줄이기 위한 최적화된 Thinning 공정과 신뢰성 분석 및 평가, 그리고 초박막 웨이퍼 핸들링 방법 등이 시스템적으로 개발되는 것이 중요하다. 칩 소형화 추세와 더불어 3D 패키징 기술이 중요시되는 산업 요구에 맞추어 향후 웨이퍼 Thinning 기술을 포함한 3D 기술의 핵심 공정기술들은 그 중요성이 증대할 것이고, 이에 대한 활발한 연구가 진행되리라 기대한다.


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